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澤攸臺式掃描電鏡:納米材料表征的桌面利器

產(chǎn)品簡介

澤攸臺式掃描電鏡:納米材料表征的桌面利器
澤攸ZEM20Ultro臺式場發(fā)射掃描電子顯微鏡是專為科研與工業(yè)場景設(shè)計的緊湊型高分辨率成像設(shè)備,其核心參數(shù)覆蓋廣泛的應(yīng)用需求。

產(chǎn)品型號:ZEM20Ultro
更新時間:2025-10-23
廠商性質(zhì):代理商
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澤攸臺式掃描電鏡:納米材料表征的桌面利器

澤攸ZEM20Ultro臺式場發(fā)射掃描電子顯微鏡是專為科研與工業(yè)場景設(shè)計的緊湊型高分辨率成像設(shè)備,其核心參數(shù)覆蓋廣泛的應(yīng)用需求。設(shè)備采用冷場發(fā)射電子槍,曲率半徑小于10nm的鎢單晶針尖可穩(wěn)定發(fā)射高亮度電子束,使用壽命超2000小時。加速電壓范圍3kV-20kV連續(xù)可調(diào),1kV步進(jìn),在30kV時分辨率達(dá)1.5nm,1kV時為10nm,可清晰捕捉納米級微觀結(jié)構(gòu)。放大倍數(shù)范圍200-360,000倍,適配從宏觀全貌到納米細(xì)節(jié)的觀測需求。

樣品臺采用五軸全自動設(shè)計,X/Y/Z三軸行程分別達(dá)90mm/50mm/32mm,旋轉(zhuǎn)角度360°,傾斜范圍-10°-90°,移動精度1μm。配合光學(xué)CCD導(dǎo)航與艙內(nèi)攝像頭,可實現(xiàn)快速精準(zhǔn)定位。真空系統(tǒng)支持高真空(≤1×10??Pa)與低真空(1-100Pa)雙模式,高真空模式抽真空時間小于30秒,低真空模式可無需鍍膜直接觀測非導(dǎo)電樣品,避免傳統(tǒng)設(shè)備因鍍膜掩蓋缺陷的問題。

澤攸ZEM20Ultro臺式場發(fā)射掃描電子顯微鏡憑借高分辨率成像能力與靈活樣品適配性,成為納米材料研發(fā)領(lǐng)域的核心工具。設(shè)備采用冷場發(fā)射電子槍,30kV加速電壓下分辨率達(dá)1.5nm,1kV下為10nm,可清晰捕捉金納米顆粒(粒徑5-50nm)、碳納米管(管徑2-10nm)等樣品的微觀形貌。其五軸全自動樣品臺支持X/Y/Z三軸電動移動,行程50mm×50mm×20mm,移動精度1μm,適配塊狀、粉末、薄膜等多種形態(tài)樣品。低真空模式(1Pa-100Pa)無需鍍膜即可直接觀測非導(dǎo)電樣品,避免傳統(tǒng)設(shè)備因鍍膜掩蓋缺陷的問題。設(shè)備尺寸850mm×650mm×1000mm,重量約120kg,適配普通實驗臺,無需特殊防震裝置,降低實驗室空間與成本門檻。

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