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產(chǎn)品中心三維光學(xué)輪廓儀BEUKER白光干涉光學(xué)輪廓儀BEUKER光學(xué)輪廓儀：高效測量微納結(jié)構(gòu)
產(chǎn)品簡介
BEUKER光學(xué)輪廓儀：高效測量微納結(jié)構(gòu)BEUKER三維測量白光干涉光學(xué)輪廓儀為微納尺度表面檢測提供高效解決方案。其模塊化設(shè)計(jì)支持靈活配置，滿足多樣化測量需求
BEUKER三維測量白光干涉光學(xué)輪廓儀為微納尺度表面檢測提供高效解決方案。其模塊化設(shè)計(jì)支持靈活配置，滿足多樣化測量需求。布魯克白光干涉光學(xué)輪廓儀：高效測量微納結(jié)構(gòu)
布魯克白光干涉光學(xué)輪廓儀產(chǎn)品特點(diǎn)
快速掃描：單次測量時(shí)間小于3秒，適合批量檢測。
多模式分析：支持白光干涉和共聚焦模式切換，適應(yīng)不同反射率樣品。
布魯克三維測量白光干涉光學(xué)輪廓儀關(guān)鍵參數(shù)
垂直分辨率：0.1nm
最大視場：5mm×5mm
重復(fù)性誤差：<1%
布魯克三維測量白光干涉光學(xué)輪廓儀型號(hào)推薦
BKI-250：經(jīng)濟(jì)實(shí)用型，適合教學(xué)與小規(guī)模檢測。
BKI-350：工業(yè)級(jí)配置，抗振動(dòng)干擾能力強(qiáng)。
布魯克三維測量白光干涉光學(xué)輪廓儀應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體晶圓缺陷檢測
MEMS器件形貌分析
光學(xué)鍍膜均勻性評估
操作指南
清潔樣品表面以避免雜散光干擾。
根據(jù)樣品特性選擇干涉或共聚焦模式。
使用校準(zhǔn)片定期進(jìn)行設(shè)備校驗(yàn)。
布魯克白光干涉光學(xué)輪廓儀：高效測量微納結(jié)構(gòu)
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公司地址：北京市房山區(qū)長陽鎮(zhèn)
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