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Sensofar白光干涉儀:高分辨表面形貌測量

產(chǎn)品簡介

Sensofar白光干涉儀:高分辨表面形貌測量
Sensofar白光干涉儀采用非接觸式光學測量技術(shù),適用于微納米級表面形貌分析,可滿足半導體、精密制造、材料科學等領(lǐng)域的高精度檢測需求。

產(chǎn)品型號:S neox
更新時間:2025-10-21
廠商性質(zhì):代理商
訪問量:213
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Sensofar白光干涉儀:高分辨表面形貌測量

產(chǎn)品概述

Sensofar白光干涉儀采用非接觸式光學測量技術(shù),適用于微納米級表面形貌分析,可滿足半導體、精密制造、材料科學等領(lǐng)域的高精度檢測需求。

核心性能

  • 測量范圍:垂直分辨率達0.1nm,橫向分辨率1μm


  • 多模式檢測:支持白光干涉(WLI)、共聚焦(CLI)、聚焦變化(FVI)


  • 快速掃描:高速采集數(shù)據(jù),減少測量時間


  • 大視野兼容:適配不同放大倍率物鏡,支持小區(qū)域至大面積掃描

用材與結(jié)構(gòu)

  • 光學系統(tǒng):高穩(wěn)定性干涉鏡頭,減少環(huán)境干擾


  • 樣品臺:精密電動載物臺,定位精度高


  • 軟件分析:內(nèi)置3D形貌重建、粗糙度計算、臺階高度分析等功能

參數(shù)表

型號

S neox

S mart

垂直分辨率

0.1nm

1nm

橫向分辨率

1μm

2μm

最大視場

10mm×10mm

5mm×5mm

掃描速度

高速模式可選

標準模式

兼容物鏡

2.5X~150X

5X~100X

主要用途

  • 半導體晶圓表面缺陷檢測


  • MEMS器件三維形貌分析


  • 精密光學元件面型測量


  • 材料表面粗糙度與臺階高度表征

使用說明

1.樣品準備:確保表面清潔,避免強反射干擾測量。

2.模式選擇:根據(jù)樣品特性選用WLI、CLI或FVI模式。

3.參數(shù)設(shè)置:調(diào)整掃描范圍、分辨率及物鏡倍率。

4.數(shù)據(jù)分析:通過軟件生成3D形貌圖并導出測量報告。

Sensofar白光干涉儀以靈活的測量模式和穩(wěn)定的性能,助力科研與工業(yè)檢測。如需技術(shù)演示或定制方案,歡迎聯(lián)系支持。Sensofar白光干涉儀:高分辨表面形貌測量


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